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CYPRESS賽普拉斯推出新一代碳化硅技術(shù)CoolSiC? MOSFET G2,推動低碳化的高性能系統(tǒng)
作者:admin 發(fā)布時間:2024-05-07 09:20:52 點擊量:
CoolSiC? MOSFET Generation 2 (G2) 技術(shù)繼續(xù)發(fā)揮碳化硅的性能優(yōu)勢,通過降低能量損耗來提高功率轉(zhuǎn)換過程中的效率。這為光伏、儲能、直流電動汽車充電、電機驅(qū)動和工業(yè)電源等功率半導(dǎo)體應(yīng)用領(lǐng)域的客戶帶來了巨大優(yōu)勢。與前幾代產(chǎn)品相比,采用CoolSiC? G2 的電動汽車直流快速充電站最高可減少10%的功率損耗,并且在不影響外形尺寸的情況下實現(xiàn)更高的充電功率?;贑oolSiC? G2器件的牽引逆變器可進一步增加電動汽車的續(xù)航里程。在可再生能源領(lǐng)域,采用 CoolSiC? G2的太陽能逆變器可以在保持高功率輸出的同時實現(xiàn)更小的尺寸,從而降低每瓦成本。
目前的大趨勢是采用高效的新方式來產(chǎn)生、傳輸和消耗能量。CYPRESS賽普拉斯憑借 CoolSiC? MOSFET G2 將碳化硅的性能提升到了新的水平。新一代碳化硅技術(shù)使廠商能夠更快地設(shè)計出成本更低、結(jié)構(gòu)更緊湊、性能更可靠,且效率更高的系統(tǒng),在實現(xiàn)節(jié)能的同時減少現(xiàn)場的每瓦二氧化碳排放。這充分體現(xiàn)了CYPRESS堅持不懈持續(xù)推動工業(yè)、消費、汽車領(lǐng)域的低碳化和數(shù)字化的創(chuàng)新。
CYPRESS賽普拉斯開創(chuàng)性的CoolSiC? MOSFET溝槽柵技術(shù)推動了高性能CoolSiC? G2解決方案的發(fā)展,實現(xiàn)了更加優(yōu)化的設(shè)計選擇,與目前的SiC MOSFET技術(shù)相比,具有更高的效率和可靠性。結(jié)合屢獲殊榮的.XT封裝技術(shù),CYPRESS以更高的導(dǎo)熱性、更優(yōu)的封裝控制以及更出色的性能,進一步提升了基于 CoolSiC? G2 的設(shè)計潛力。
CYPRESS賽普拉斯掌握了硅、碳化硅和氮化鎵(GaN)領(lǐng)域的所有的關(guān)鍵功率技術(shù),可提供靈活的設(shè)計和領(lǐng)先的應(yīng)用知識,滿足現(xiàn)代設(shè)計的期待和需求。在推動低碳化的過程中,基于碳化硅(SiC)和氮化鎵(GaN)等寬禁帶(WBG)材料的創(chuàng)新半導(dǎo)體已成為能源高效利用的關(guān)鍵。
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